美國加強限制後 中國11月進口荷蘭芯片製造設備激增十倍
南華早報消息，今年11月份，中國從荷蘭進口的關鍵芯片製造光刻系統的價值激增了1050%，這表明在美國收緊出口規定之後，中國國內半導體公司尚未被切斷接收某些先進設備訂單的渠道。
發表時間：
據《南早》12月22日報道，11 月份，中國從荷蘭進口的關鍵芯片製造光刻系統的價值激增了 1050%，上個月，中國進口了 16 台荷蘭投影系統，價值 7.627 億美元，同比增長10 倍。
相比之下，10 月份中國進口了 21 台光刻系統，價值 6.725 億美元。平均單價相差46%，這表明中國企業正在繼續獲得更先進的系統，儘管華盛頓一直試圖阻撓這種努力。
荷蘭是光刻機的最大出口國，光刻機用於製造世界上最先進的芯片，幾乎所有的光刻機都來自一家公司--ASML。
還有日本
南早說，11 月份，中國總共進口了 42 台光刻系統，總價值達 8.168 億美元。其中15台來自日本，日本是業界重量級企業佳能（Canon）和尼康（Nikon）的總部所在地。荷蘭和日本加在一起，幾乎佔據了中國上個月進口光刻機的全部金額。
據該報介紹，光刻工具是一種複雜的投影系統，是集成電路製造過程中所需的10類設備中最重要的一類。中國在這項技術上被認為落後多年，雖然政府投入了大量資金，但在很大程度上仍未能縮小與領先企業的差距。
中國政府多年來一直在推動技術自力更生的議程，但根據國家支持的CanSemi公司在8月份的一次行業論壇上提供的數據，截至2021年，中國晶圓廠使用的光刻系統中只有不到 5% 是中國製造的。
美國商務部在10月份擴大了針對中國的出口管制規則後，中國的進口量連續兩個月飆升。在有關光刻系統的部分，美國廢除了適用於某些深紫外線（DUV）工具的"微量"規則，該規則比荷蘭政府9月份生效的出口規則設定了更高的標準。
南早說，如果非美國公司的任何產品含有至少25%的美國原產技術，則微量規則賦予華盛頓對該產品的長臂管轄權。
然而，該規則的最新調整實質上使得此類技術的比例變得無關緊要。新規定從上月起生效，限制總部位於荷蘭的ASML公司向中國（該公司的第三大市場）少數從事先進半導體製造的工廠出售某些浸沒式 DUV 光刻系統，包括其 Twinscan NXT:1980Di 光刻系統。
不過，ASML 首席執行官 Peter Wennink 表示，最新的限制措施將絕大多數中國客戶排除在外，因為這些客戶涉足的是成熟或傳統的半導體製造，即28納米及以上的半導體製造。